一、概述

我國繼續(xù)對內(nèi)資研發(fā)機(jī)構(gòu)和外資研發(fā)中心采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅，其中8類研發(fā)機(jī)構(gòu)采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅。除此此外，《科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備清單》中明確了四大類別的設(shè)備。

二、詳細(xì)介紹

財政部、商務(wù)部、國家稅務(wù)總局近日印發(fā)《關(guān)于繼續(xù)執(zhí)行研發(fā)機(jī)構(gòu)采購設(shè)備增值稅政策的通知》，《通知》明確，適用采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅政策的內(nèi)資研發(fā)機(jī)構(gòu)和外資研發(fā)中心包括：

（一）科技部會同財政部、海關(guān)總署和國家稅務(wù)總局核定的科技體制改革過程中轉(zhuǎn)制為企業(yè)和進(jìn)入企業(yè)的主要從事科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)工作的機(jī)構(gòu)；

（二）國家發(fā)展改革委會同財政部、海關(guān)總署和國家稅務(wù)總局核定的國家工程研究中心；

（三）國家發(fā)展改革委會同財政部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局和科技部核定的企業(yè)技術(shù)中心；

（四）科技部會同財政部、海關(guān)總署和國家稅務(wù)總局核定的國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室和國家工程技術(shù)研究中心；

（五）國務(wù)院部委、直屬機(jī)構(gòu)和省、自治區(qū)、直轄市、計劃單列市所屬專門從事科學(xué)研究工作的各類科研院所；

（六）國家承認(rèn)學(xué)歷的實(shí)施?？萍耙陨细叩葘W(xué)歷教育的高等學(xué)校；

（七）符合本通知第二條規(guī)定的外資研發(fā)中心；

（八）財政部會同國務(wù)院有關(guān)部門核定的其他科學(xué)研究機(jī)構(gòu)、技術(shù)開發(fā)機(jī)構(gòu)和學(xué)校。

　　《通知》明確，外資研發(fā)中心根據(jù)其設(shè)立時間應(yīng)分別滿足下列條件：

（一）2009年9月30日及其之前設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：

1.研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn)：（1）對外資研發(fā)中心，作為獨(dú)立法人的，其投資總額不低于500萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的非獨(dú)立法人的，其研發(fā)總投入不低于500萬美元；（2）企業(yè)研發(fā)經(jīng)費(fèi)年支出額不低于1000萬元。

2.專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于90人。

3.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于1000萬元。

（二）2009年10月1日及其之后設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：

1.研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn)：作為獨(dú)立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的非獨(dú)立法人的，其研發(fā)總投入不低于800萬美元。

2.專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于150人。

3.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于2000萬元。

外資研發(fā)中心須經(jīng)商務(wù)主管部門會同有關(guān)部門按照上述條件進(jìn)行資格審核認(rèn)定。具體審核認(rèn)定辦法見附件1。在2015年12月31日（含）以前，已取得退稅資格未滿2年暫不需要進(jìn)行資格復(fù)審的、按規(guī)定已復(fù)審合格的外資研發(fā)中心，在2015年12月31日享受退稅未滿2年的，可繼續(xù)享受至2年期滿。

經(jīng)認(rèn)定的外資研發(fā)中心，因自身條件變化不再符合退稅資格的認(rèn)定條件或發(fā)生涉稅違法行為的，不得享受退稅政策。

通知稱，具體退稅管理辦法由國家稅務(wù)總局會同財政部另行制定。

《科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備清單》明確四大類別設(shè)備：　　

一、實(shí)驗(yàn)環(huán)境方面

(一)教學(xué)實(shí)驗(yàn)儀器及裝置;

(二)教學(xué)示教、演示儀器及裝置;

(三)超凈設(shè)備(如換氣設(shè)備、滅菌儀器、純水設(shè)備、凈化設(shè)備等);

(四)特殊實(shí)驗(yàn)環(huán)境設(shè)備(如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強(qiáng)腐蝕設(shè)備等);

(五)特殊電源、光源設(shè)備;

(六)清洗循環(huán)設(shè)備;

(七)恒溫設(shè)備(如水浴、恒溫箱、滅菌儀等);

(八)小型粉碎、研磨制備設(shè)備。

二、樣品制備設(shè)備和裝置

(一)特種泵類(如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動泵、蝸輪泵、干泵等);

(二)培養(yǎng)設(shè)備(如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等);

(三)微量取樣設(shè)備(如取樣器、電子精密天平等);

(四)分離、純化、濃縮設(shè)備(如離心機(jī)、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設(shè)備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等);

(五)氣體、液體、固體混合設(shè)備(如旋渦混合器等);

(六)制氣設(shè)備、氣體壓縮設(shè)備;

(七)專用制樣設(shè)備(如切片機(jī)、壓片機(jī)、鍍膜機(jī)、減薄儀、拋光機(jī)等)，實(shí)驗(yàn)用注射、擠出、造粒、膜壓設(shè)備;實(shí)驗(yàn)室樣品前處理設(shè)備。

三、實(shí)驗(yàn)室專用設(shè)備

(一)特殊照相和攝影設(shè)備(如水下、高空、高溫、低溫等);

(二)科研飛機(jī)、船舶用關(guān)鍵設(shè)備;

(三)特種數(shù)據(jù)記錄設(shè)備(如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機(jī)、光盤機(jī)等);

(四)材料科學(xué)專用設(shè)備(如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設(shè)備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴(kuò)散爐、濺射儀、離子刻蝕機(jī)，材料實(shí)驗(yàn)機(jī)等)，可靠性試驗(yàn)設(shè)備，微電子加工設(shè)備，通信模擬仿真設(shè)備，通信環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備;

(五)小型熔煉設(shè)備(如真空、粉末、電渣等)，特殊焊接設(shè)備;

(六)小型染整、紡絲試驗(yàn)專用設(shè)備;

(七)電生理設(shè)備。

四、計算機(jī)工作站，中型、大型計算機(jī)。

（內(nèi)容來源中國化工儀器網(wǎng)）

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